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加熱制冷循環(huán)裝置高低溫控溫方案原理和難題

簡要描述:【無錫冠亞】加熱制冷循環(huán)裝置高低溫控溫方案原理和難題,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。

  • 產(chǎn)品型號:SUNDI-635
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-01-08
  • 訪  問  量:678
詳情介紹
品牌LNEYA/無錫冠亞價格區(qū)間5萬-10萬
產(chǎn)地類別國產(chǎn)應用領域醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,航天

<strong><strong><strong><strong>企業(yè)選擇TCU反應釜溫控系統(tǒng)需要注意哪些</strong></strong></strong></strong> 

無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。  

<strong><strong>中試配套高低溫一體機的使用基本要求說明</strong></strong>

型號SUNDI-655WVSUNDI-675WVSUNDI-6A10WVSUNDI-6A15WVSUNDI-6A25WV
介質(zhì)溫度范圍-60℃~+300℃ (系統(tǒng)加壓3BAR)
控制系統(tǒng)前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器
溫控模式選擇物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇
溫差控制設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定
程序編輯可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟
通信協(xié)議MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口
外接入溫度反饋PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)
溫度反饋設備導熱介質(zhì) 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度
導熱介質(zhì)溫控精度±0.5℃
反應物料溫控精度±1℃
加熱功率 kW5.57.5101525
制冷量 kW  AT300℃5.57.5101525
100℃5.57.5101525
20℃5.57.5101525
-20℃4.868.21225
-40℃2.33.14.87.818
-55℃0.750.91.52.86
流量壓力 max  L/min bar355060110150
222.52.52.5
循環(huán)泵冠亞磁力驅(qū)動泵
壓縮機法國泰康活塞壓縮機意大利都凌/卡萊爾/艾默生
膨脹閥丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥+艾默生電子膨脹閥
蒸發(fā)器丹佛斯/高力板式換熱器
操作面板7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄
安全防護具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。
密閉循環(huán)系統(tǒng)整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng),高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質(zhì)。
制冷劑R-404A/R23混合制冷劑
接口尺寸G3/4G1G1G1DN32 PN10
水冷型 W
溫度 20度
1800L/H
1.5bar~4bar
G3/4
2100L/H
1.5bar~4bar
G3/4
3000L/H
1.5bar~4bar
G1
4000L/H
1.5bar~4bar
G1 1/8
8.5m³/H
1.5bar~4bar
DN40
外形尺寸 cm55*100*17555*100*17570*100*17580*120*185100*150*185
重量kg265305340380980
電源 380V50HZ10kW14kW18kW26kW40kW

 <strong><strong>中試配套高低溫一體機的使用基本要求說明</strong></strong><strong><strong>中試配套高低溫一體機的使用基本要求說明</strong></strong><strong><strong>中試配套高低溫一體機的使用基本要求說明</strong></strong><strong><strong>中試配套高低溫一體機的使用基本要求說明</strong></strong>

加熱制冷循環(huán)裝置高低溫控溫方案原理和難題

加熱制冷循環(huán)裝置高低溫控溫方案原理和難題

   加熱制冷循環(huán)裝置是針對反應釜、反應器、反應罐等進行流體制冷加熱控溫的設備,目前市面上的廠家比較多,那么加熱制冷循環(huán)裝置的控溫原理以及工藝大家都了解多少呢?

  反應釜或者反應器在進行制冷加熱控溫的時候,配套的加熱制冷循環(huán)裝置進行控溫達到預期的溫度范圍,這整個過程會使得產(chǎn)生一定的化學反應,產(chǎn)生熱量,這個反應過程容易被外界所影響,所以,加熱制冷循環(huán)裝置的放置環(huán)境比較重要,建議選擇通風陰涼的靠譜房間放置。

  加熱制冷循環(huán)裝置配套的反應釜在進行聚合反應的,會出現(xiàn)一系列的放熱反應以及吸熱反應,在進行化學反應的時候,建議周圍操作人員不要太靠近,避免產(chǎn)生一定的麻煩。在進行反應的過程中,如果熱量不及時排除,會影響反映得壓力,如果壓力太高會使得整個反應處于一定的危險。

  加熱制冷循環(huán)裝置可以配套不同容積大小的反應釜進行制冷加熱控溫,由于不同大小的反應釜帶來的熱容量不同,所以其吸熱或者放熱的能力也不同,因此,加熱制冷循環(huán)裝置的選型需要提供準確反應釜大小、溫度要求、材質(zhì)等工況要求給加熱制冷循環(huán)裝置廠家進行選型,避免選型或大或小導致設備達不到預期的溫度要求。

加熱制冷循環(huán)裝置可以同時控制一臺或者多臺反應釜,是一種集成控溫的大系統(tǒng)裝置,可以根據(jù)工況要求進行生產(chǎn)。 

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