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加熱控溫設備-高低溫循環(huán)裝置

簡要描述:加熱控溫設備-高低溫循環(huán)裝置,全密閉的循環(huán)系統(tǒng)避免了高溫油霧異味和低溫吸收水分的情況,保障了工作環(huán)境不會有刺鼻氣味的產(chǎn)生,也避免了導熱介質(zhì)吸收了水分后變粘稠黏附在反應釜壁后導致傳熱效果變差。

  • 產(chǎn)品型號:SUNDI-155
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-01-03
  • 訪  問  量:611
詳情介紹
品牌LNEYA/無錫冠亞價格區(qū)間5萬-10萬
產(chǎn)地類別國產(chǎn)應用領域醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,航天

<strong><strong><strong><strong>冷熱循環(huán)機-20到60價格,加熱制冷機</strong></strong></strong></strong>

 

無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統(tǒng)、

蒸飽系統(tǒng)控溫、

材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、

半導體設備冷卻加熱、

真空室制冷加熱恒溫控制。

<strong><strong><strong><strong>冷熱循環(huán)機-20到60價格,加熱制冷機</strong></strong></strong></strong>

型號SUNDI-125
SUNDI-125W
SUNDI-135
SUNDI-135W
SUNDI-155
SUNDI-155W
SUNDI-175
SUNDI-175W
SUNDI-1A10
SUNDI-1A10W
SUNDI-1A15
SUNDI-1A15W
介質(zhì)溫度范圍-10℃~+200℃
控制系統(tǒng)前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器
溫控模式選擇物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇
溫差控制設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定
程序編輯可編制10條程序,每條程序可編制40段步驟
通信協(xié)議MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口
外接入溫度反饋PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)
溫度反饋設備導熱介質(zhì) 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度
導熱介質(zhì)溫控精度±0.5℃
反應物料溫控精度±1℃
加熱功率 kW2.53.55.57.51015
制冷量 kW at200℃2.53.55.57.51015
20℃2.53.55.57.51015
-5℃1.52.13.34.269
流量壓力 max
L/min bar
203535505075
222222.5
壓縮機三菱三菱艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機
膨脹閥丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥
蒸發(fā)器丹佛斯/高力板式換熱器
操作面板7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄
安全防護具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。
密閉循環(huán)系統(tǒng)整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng),高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質(zhì)。
制冷劑R-404A/R507C
接口尺寸G1/2G3/4G3/4G1G1G1
水冷型 W
溫度 20度
600L/H
1.5bar~4bar
800L/H
1.5bar~4bar
1000L/H
1.5bar~4bar
1200L/H
1.5bar~4bar
1600L/H
1.5bar~4bar
2000L/H
1.5bar~4bar
外型尺寸(水)cm45*65*12055*68*14555*68*14555*68*14555*100*17570*100*175
外形尺寸 (風)cm50*85*13055*100*17555*100*17555*100*17555*100*17570*100*175
隔爆尺寸(風) cm45*110*13045*110*13045*110*13055*120*17055*120*17055*120*170
正壓防爆(水)cm110*95*195110*95*195110*95*195110*95*195110*95*195120*110*195
常規(guī)重量kg115165185235280300
電源 380V 50HZAC 220V 50HZ 3.6kW5.6kW7.5kW10kW13kW20kW

 

 

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加熱控溫設備-高低溫循環(huán)裝置

加熱控溫設備-高低溫循環(huán)裝置

  加熱控溫設備,并以導熱油作冷卻介質(zhì)和反應介質(zhì)進行了試驗結果表明,冷卻介質(zhì)流量越大,反應介質(zhì)溫度上升越緩慢,達到溫度平衡所需時間越短,溫度增量越小。沒有冷卻介質(zhì)時,反應介質(zhì)溫度達到平衡約需,溫度升高約冷卻介質(zhì)流量為時,反應介質(zhì)溫度達到平衡約需,溫度升高。

  化學是利用超聲能量加速和控制化學反應,提高反應產(chǎn)率和引發(fā)新的化學反應的一門新的學科。加熱控溫設備該技術主要是利用導熱油在化學反應介質(zhì)液體中產(chǎn)生的空化效應,實現(xiàn)常規(guī)手段所不能實現(xiàn)的化學反應,或加快化學反應速度及減少催化劑的使用量等。而且,在相當長的一段時間內(nèi),反應介質(zhì)的溫度是隨時間變化的,其結果是無法確定超聲的熱效應即反應介質(zhì)的溫度變化對相關化學反應過程的影響。

加熱控溫設備必須施加適當?shù)睦鋮s降溫措施,介紹了一些冷卻降溫技術,但其不足之處是以犧牲聲化學反應器的化學反應器不同的是,這里為雙層壁反應槽,冷卻介質(zhì)通道經(jīng)過專門設計,以利于較大限度地對反應介質(zhì)進行冷卻降溫。

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